Dubai Telegraph - Wut über Trumps Iran-Deal

Wut über Trumps Iran-Deal

Nach drei Monaten eines verheerenden Kriegs zwischen den Vereinigten Staaten, Israel und dem Iran verhandeln Washington und Teheran über ein Abkommen, das die Kämpfe beenden und die Blockade der Straße von Hormus aufheben soll. US‑Präsident Donald Trump spricht von einem Memorandum of Understanding, das eine 60‑tägige Waffenruhe und weitere Verhandlungen vorsieht. Die israelische Regierung verfolgt die Gespräche mit wachsender Sorge. Ministerpräsident Benjamin Netanjahu betont öffentlich, dass jedes Abkommen den „nuklearen Gefahr“ beseitigen müsse und Israel das Recht behalte, sich gegen Bedrohungen aus allen Richtungen zu verteidigen. Doch viele Details des Entwurfs lassen Zweifel am Nutzen für Israel aufkommen.

Die Konturen des Entwurfs
Laut Berichten aus Washington und Teheran sieht die vorläufige Vereinbarung einen 60‑tägigen Waffenstillstand vor, der die Kämpfe auf allen Fronten – einschließlich Libanon – beenden soll. Während dieser Phase würden US‑ und iranische Unterhändler über eine dauerhafte Lösung verhandeln. Der Entwurf soll die Blockade der Straße von Hormus beenden, indem Iran die Wasserstraße binnen 30 Tagen von Minen räumt und im Gegenzug Handelsschiffe wieder passieren lässt. Parallel dazu plant Washington, eingefrorene iranische Guthaben freizugeben; im Gespräch sind 12 bis 25 Milliarden US‑Dollar. Die Einigung enthält jedoch bisher keine konkreten Verpflichtungen zur Reduzierung des iranischen Raketenprogramms oder zur Demontage des Netzes bewaffneter Stellvertreter.

Vor allem die nukleare Frage bleibt ungeklärt. Das Abkommen würde das Thema in die anschließenden Verhandlungen verlagern. Iranische Vertreter betonten, es sei richtig, dass man sich über viele Punkte geeinigt habe, aber niemand könne behaupten, ein Abkommen stehe unmittelbar bevor. Sie verlangen, dass der Waffenstillstand auch für Libanon gilt und die Verwaltung der Straße von Hormus gemeinsam mit dem Oman festgelegt wird. Vertreter des Trump‑Teams dagegen wollen, dass Teheran seine Bestände an hoch angereichertem Uran entsorgt und die Straße ohne Gebühren („keine Zölle“) öffnet.

Israels Sicherheitsbedenken
Für Israel ist der vorgelegte Rahmen problematisch, weil er zentrale Forderungen ausblendet. Hochrangige israelische Offizielle bezeichneten die entstehende Vereinbarung als „schlechten Deal“; selbst wenn Iran sein angereichertes Uran komplett abgeben sollte, bliebe das Raketenprogramm unangetastet und das Netzwerk iranischer Milizen in der Region unbeschränkt. Jerusalem fürchtet darüber hinaus, dass der vorgeschlagene Waffenstillstand seine militärische Handlungsfreiheit in Libanon einschränken und zukünftige Einsätze gegen Hezbollah erschweren könnte.

Mitglieder der israelischen Sicherheitsdienste beklagten in internen Papieren, dass israelische Interessen während der Verhandlungen kaum berücksichtigt worden seien. Die Regierung in Jerusalem war nach Angaben von Offiziellen größtenteils von den Gesprächen ausgeschlossen und müsste ein Abkommen akzeptieren, das sie nicht selbst mitgestaltet hat. Diese Ausschlussgefühle verstärken den Eindruck, Washington werde seine regionalen Partner opfern, um schnell eine Friedenslösung und die Öffnung der Energieadern zu erreichen.

Politische Kritik in Israel
Die israelische Öffentlichkeit reagiert zunehmend nervös. Kommentatoren und ehemalige Militärs werfen der Regierung vor, die ursprünglichen Kriegsziele verfehlt zu haben. Zu Beginn des Kriegs im Februar hatte Netanjahu angekündigt, Irans Nuklear‑ und Raketenprogramm zerschlagen und sogar Voraussetzungen für einen Regimewechsel schaffen zu wollen. Nun zeichnet sich ab, dass das entstehende Abkommen kaum etwas davon erreicht. Der Sicherheitsexperte Amos Harel bezeichnete das Memorandum als amerikanische Kapitulation und Zeichen schwindenden israelischen Einflusses. Andere Analysten wiesen darauf hin, dass die Militärkampagne zwar taktische Erfolge brachte, Iran aber strategisch gestärkt aus dem Konflikt hervorging.

Oppositionspolitiker wie Yair Lapid sprachen von einem „politischen Desaster“ und warfen Netanjahu vor, weder politisch noch strategisch eines seiner Ziele erreicht zu haben. Selbst innerhalb der Regierungspartei gibt es Bedenken: Ein Mitglied des Likud räumte ein, dass die Erwartungen zu Beginn des Kriegs unrealistisch hoch waren und man nun vor der Herausforderung stehe, der iranischen Raketenbedrohung immer wieder zu begegnen.

Internationale Dimension und iranische Position
Während Israel Alarm schlägt, versucht Teheran, die Erwartungen zu dämpfen. Der iranische Außenamtssprecher Esmail Baghaei bezeichnete Behauptungen, ein Abkommen stehe kurz bevor, als übertrieben und verwies auf „widersprüchliche Stellungnahmen“ aus Washington. Baghaei stellte klar, dass die Verwaltung der Straße von Hormus Sache Irans und Omans sei und es sich nicht um „Zölle“, sondern um Gebühren für Navigationsdienste handele. Er beharrte darauf, dass eine Waffenruhe auch das Kampfgebiet Libanon umfassen müsse. Währenddessen betonte der US‑Außenminister Marco Rubio, es liege ein „ziemlich solides“ Paket auf dem Tisch, das die Öffnung der Straße und eine zeitlich begrenzte Verhandlung über das Nuklearprogramm vorsieht.

Trump selbst schwankte in seinen öffentlichen Äußerungen, wie stets in seinem Verhalten: Einerseits versprach er, das Abkommen werde entweder „großartig und bedeutungsvoll“ sein oder gar nicht zustande kommen; andererseits forderte er, dass Iran nie eine Atombombe besitzen dürfe und die Straße von Hormus sofort und ohne Gebühren geöffnet werde. Kritiker werfen ihm vor, vor den Zwischenwahlen dringend einen Erfolg zu benötigen und deshalb bereit zu sein, israelische Bedenken hintanzustellen. Iran wiederum erhebt Forderungen nach Aufhebung der Sanktionen, dem Abzug US‑amerikanischer Truppen aus der Region und einem Ende der israelischen Offensive im Libanon.

Fazit und Ausblick in die nahe Zukunft
Israels Zorn über Trumps Iran‑Deal speist sich aus einer Mischung aus strategischen und politischen Faktoren. Der vorliegende Entwurf bietet Iran wirtschaftliche Erleichterungen und Zeit, sein Raketenarsenal wieder aufzubauen, während zentrale israelische Forderungen – die Beseitigung des nuklearen und militärischen Bedrohungspotenzials sowie die Einschränkung der iranischen Stellvertreter – vorerst ausgeklammert bleiben. Hinzu kommt das Gefühl, von den Gesprächen ausgeschlossen zu sein und die eigene Handlungsfreiheit im Libanon und darüber hinaus zu verlieren. Ob Trump seine Bedingungen durchsetzt oder ob Teheran die Oberhand behält, bleibt ungewiss. Klar ist jedoch, dass das entstehende Abkommen die Beziehungen zwischen Washington und Jerusalem belastet und in Israel das Gefühl verstärkt, von einem wichtigen Verbündeten im Stich gelassen zu werden.

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Vorgestellt

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Das Projekt mit dem Namen "WakeBASE" beinhaltete eine einzigartige Kombination aus Drohnen-Wakeskating und BASE-Jumping.Schauplatz dieses Kunststücks war das Address Beach Resort in Dubai, dessen Infinity-Pool 294 Meter über dem Meeresspiegel liegt und damit den Guinness-Weltrekord hält.Grubbs Herausforderung begann mit einem 94 Meter langen Wakeskating über den Pool auf dem Dach, wobei er von einer speziell entwickelten Drohne gezogen wurde.Der Stunt gipfelte in einem BASE-Sprung vom Rand des Pools, bei dem Grubb 77 Stockwerke hinabsprang, bevor er erfolgreich am Strand landete. Diese Leistung war die Verwirklichung von Grubbs siebenjährigem Traum und ein historischer Meilenstein im Extremsport.Um sich auf "WakeBASE" vorzubereiten, unterzog sich Grubb einem rigorosen Training mit der BASE-Sprunglegende Miles Daisher.Obwohl er im Dezember 2022 erst 26 BASE-Sprünge absolviert hatte, absolvierte Grubb 106 Sprünge während seines Trainings, das in Idaho, USA, und Lauterbrunnen, Schweiz, einem renommierten BASE-Sprungort, stattfand.Das Projekt umfasste auch eine Partnerschaft mit Prada, das maßgeschneiderte, für die Anforderungen von Wakeskating und BASE-Jumping optimierte Kleidung zur Verfügung stellte.Die Drohne, die bei diesem Stunt zum Einsatz kam, wurde von einem Team unter der Leitung von Sebastian Stare mit spezieller Hard- und Software entwickelt, die auf die Anforderungen von "WakeBASE" zugeschnitten ist.Die Wahl des Address Beach Resorts in Dubai war von strategischer Bedeutung, da der hohe Infinity-Pool und das architektonische Layout sowohl für den Wakeskate-Lauf als auch für den BASE-Sprung ideal waren.

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Chinas Angriff auf ASML

China macht Fortschritte beim Aufbau eigener Maschinen für die Chipfertigung. Doch ein EUV-Prototyp ist noch kein Ersatz für die Anlagen des niederländischen Marktführers. Entscheidend ist nicht allein, ob die Technik funktioniert, sondern ob sie zuverlässig und wirtschaftlich produziert.Kaum ein Unternehmen verkörpert die technologische Abhängigkeit der chinesischen Halbleiterindustrie so deutlich wie ASML. Der niederländische Konzern liefert die Maschinen, mit denen sich besonders anspruchsvolle Strukturen moderner Computerchips in industriellen Stückzahlen fertigen lassen. Seine EUV-Anlagen sind deshalb weit mehr als Investitionsgüter: Sie stehen im Zentrum eines Wettbewerbs um wirtschaftliche Macht, künstliche Intelligenz und technologische Eigenständigkeit.China will diese Abhängigkeit überwinden. Fortschritte bei eigenen Belichtungssystemen machen das Vorhaben greifbarer. Die Behauptung, ASMLs schlimmster Albtraum sei bereits Wirklichkeit geworden, geht allerdings zu weit. Ein ernst zu nehmender Herausforderer entsteht nicht mit dem ersten gelungenen Experiment. Er entsteht, wenn Kunden dessen Maschinen dauerhaft in ihre Fertigung integrieren können. Genau dort liegt der Haken hinter Chinas vermeintlichem Triumph.Der Prototyp und die entscheidende LückeIn Shenzhen soll Anfang 2025 ein chinesischer EUV-Prototyp fertiggestellt worden sein, der entsprechendes Licht erzeugen konnte. Ende 2025 hatte die Anlage jedoch noch keine funktionsfähigen Chips hergestellt. Als Entwicklungsziel wurde 2028 genannt; zugleich stand 2030 als vorsichtigere Einschätzung im Raum. Beide Jahreszahlen bezeichnen Erwartungen, keine erreichte Serienreife.Der Unterschied ist fundamental. Ein Versuchsaufbau kann zeigen, dass bestimmte technische Komponenten zusammenarbeiten. Eine Produktionsmaschine muss dagegen unter wechselnden Bedingungen berechenbare Ergebnisse liefern. Sie muss präzise bleiben, Wartungsintervalle überstehen und nach einem Eingriff wieder dieselbe Qualität erreichen. Ihre Leistungsfähigkeit bemisst sich nicht an einem besonders gelungenen Test, sondern an einer langen Folge reproduzierbarer Ergebnisse.Auch erste funktionsfähige Chips wären deshalb noch kein Beweis für wirtschaftliche Konkurrenzfähigkeit. Eine Fabrik braucht nicht nur einzelne erfolgreiche Bauteile. Sie braucht eine ausreichend hohe Ausbeute, also einen tragfähigen Anteil einwandfreier Chips an der gesamten Produktion. Bleibt dieser Anteil zu niedrig, verteilen sich die Herstellungskosten auf zu wenige verkäufliche Produkte. Eine technisch beeindruckende Anlage kann dadurch wirtschaftlich unbrauchbar bleiben.Warum das Licht allein nicht genügtEUV steht für extrem ultraviolette Strahlung. Die Lithografie arbeitet dabei mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern. In ASMLs Systemen treffen leistungsstarke Laserpulse auf winzige Zinntropfen. Das entstehende Plasma emittiert das benötigte Licht, mit dem sich über eine strukturierte Maske feinste Muster auf eine lichtempfindliche Schicht des Siliziumwafers übertragen lassen.Doch dieses Licht lässt sich nicht wie in einem gewöhnlichen optischen Gerät durch Glaslinsen führen. Bereits Luft absorbiert die Strahlung. Der Strahlengang muss daher im Vakuum liegen; hochpräzise Mehrschichtspiegel übernehmen die optische Führung. Lichtquelle, Spiegel, Maske und die Positionierung des Wafers müssen als ein einziges System funktionieren.An dieser Stelle beginnt die eigentliche industrielle Schwierigkeit. Wärme verändert die Eigenschaften optischer Komponenten. Winzige Verschiebungen können die Deckung aufeinanderfolgender Strukturen beeinträchtigen. Verunreinigungen und Abbildungsfehler können Defekte verursachen. Sensoren, Messverfahren und Korrektursoftware müssen solche Einflüsse erkennen und ausgleichen. Es reicht nicht, jede Baugruppe für sich zu beherrschen; die Präzision muss im laufenden Betrieb erhalten bleiben.ASMLs Vorsprung besteht somit nicht nur aus einem Bauplan. Er steckt ebenso in Fertigungsprozessen, Messdaten, Wartungserfahrung und der Abstimmung mit den Chipproduzenten. Wer eine vergleichbare Anlage entwickeln will, muss dieses Zusammenspiel aufbauen. Gerade Erfahrungen aus dem Fabrikbetrieb lassen sich nicht vollständig durch zusätzliche Laborversuche ersetzen.Der nähere Angriff erfolgt über DUVNeben dem EUV-Projekt gewinnt Chinas Entwicklung eigener DUV-Anlagen an Bedeutung. Huawei unterstützt den Aufbau heimischer Ausrüstung und Zulieferer. Das Unternehmen Yuliangsheng arbeitet an entsprechenden Belichtungssystemen, die bei chinesischen Chipproduzenten erprobt werden. Für Ende 2026 steht das Ziel von zwölf Maschinen im Raum. Zugleich bleiben chinesische Hersteller in erheblichem Umfang auf ASML-Technik angewiesen.DUV und EUV dürfen dabei nicht verwechselt werden. Moderne ArF-DUV-Systeme nutzen Licht mit einer Wellenlänge von 193 Nanometern. Durch aufwendige Mehrfachstrukturierung lassen sich damit wesentlich feinere Strukturen erzeugen, als eine einzelne Belichtung erlauben würde. Ein komplexes Muster wird dazu in mehrere einfachere Muster zerlegt, deren Übertragung und weitere Verarbeitung sorgfältig aufeinander abgestimmt werden müssen.Dieser Weg eröffnet technische Möglichkeiten, verlangt aber zusätzliche Prozessschritte und besonders genaue Ausrichtung. Die höhere Komplexität kann die Fertigungsdauer verlängern, Kosten steigern und weitere Fehlerquellen schaffen. Ob das Verfahren wirtschaftlich trägt, hängt vom konkreten Chip und vom beherrschten Produktionsprozess ab. Die Existenz eines leistungsfähigen Prozessors verrät daher noch nicht, wie teuer oder aufwendig seine Herstellung war.Für ASML könnte ein konkurrenzfähiges chinesisches DUV-Angebot dennoch früher spürbar werden als ein EUV-Konkurrent. DUV bleibt auch in modernen Fabriken für zahlreiche Schichten notwendig. Ein heimischer Anbieter müsste deshalb nicht sofort die anspruchsvollsten Anwendungen übernehmen, um Geschäft zu gewinnen. Bereits verlässliche Maschinen für einen Teil der Produktion könnten Abhängigkeiten verringern und den Einstieg in größere Aufträge erleichtern.Eine eigene Maschine ist noch keine eigene LieferketteDie Vorstellung, China müsse lediglich eine niederländische Maschine nachbauen, unterschätzt die Aufgabe. Ein Belichtungssystem vereint hochspezialisierte Optik, Lichtquellen, Präzisionsmechanik, Steuerung und Software. Für den Produktionsbetrieb kommen Verbrauchsmaterialien, Ersatzteile, Prüftechnik und qualifiziertes Servicepersonal hinzu. Eine Schwachstelle kann die Leistung des gesamten Systems begrenzen.Daraus folgt ein strengerer Maßstab für technologische Unabhängigkeit. Eine Anlage, die an einem chinesischen Standort zusammengebaut wird, ist nicht automatisch unabhängig von ausländischen Komponenten. Entscheidend wäre, ob sich kritische Teile dauerhaft beschaffen, in gleichbleibender Qualität fertigen und bei Ausfällen ersetzen lassen. Selbst eine erfolgreiche Erstmontage beantwortet diese Fragen noch nicht.Gelingt es chinesischen Maschinenbauern, ihre Systeme schrittweise in heimischen Fabriken zu etablieren, entsteht allerdings ein wichtiger Vorteil: praktische Rückmeldung. Jeder Einsatz kann zeigen, welche Komponenten verschleißen, welche Korrekturen erforderlich sind und wo Produktivität verloren geht. Diese Lernprozesse könnten langfristig schwerer wiegen als einzelne spektakuläre Demonstrationen. Voraussetzung bleibt, dass die Anlagen den Betrieb tatsächlich unterstützen und nicht dauerhaft durch unzuverlässige Ergebnisse belasten.Exportkontrollen gewinnen Zeit, nicht GewissheitDie Exportbeschränkungen haben den Zugang Chinas zu modernster Lithografietechnik erheblich erschwert. ASML bekräftigte im Juni 2026, niemals EUV-Systeme oder eigens dafür entwickelte Komponenten nach China geliefert zu haben. Das ist zugleich eine wichtige Grenze der Debatte: Ein chinesisches Entwicklungsprojekt ist nicht mit einer nachgewiesenen Lieferung vollständiger ASML-EUV-Anlagen gleichzusetzen.Strategisch lassen sich aus dieser Lage zwei unterschiedliche Wirkungen ableiten. Fehlender Zugang zu Spitzentechnik kann Fortschritte verzögern und die Kosten der Aufholjagd erhöhen. Zugleich wächst der Anreiz, eigene Lösungen zu finanzieren und heimische Lieferanten auch dann zu erproben, wenn deren Produkte zunächst weniger leistungsfähig sind.Daraus folgt weder, dass Exportkontrollen wirkungslos wären, noch, dass sie einen technologischen Vorsprung dauerhaft garantieren könnten. Ihr langfristiger Nutzen hängt auch davon ab, wie die gewonnene Zeit eingesetzt wird. Eine Industrie, die ihre eigenen Entwicklungsprogramme vernachlässigt, lässt sich nicht allein durch Beschränkungen für Wettbewerber absichern.ASML steht nicht vor dem ZusammenbruchDie aktuellen Geschäftszahlen passen jedenfalls nicht zum Bild eines Konzerns, dessen Position bereits zusammengebrochen wäre. Im zweiten Quartal 2026 erzielte ASML rund 9,3 Milliarden Euro Umsatz und 2,9 Milliarden Euro Nettogewinn. Im Juli hob das Unternehmen seine Umsatzprognose für das Gesamtjahr auf 43 bis 45 Milliarden Euro an. Die Nachfrage wird wesentlich durch Investitionen in Rechenleistung und Speicher für künstliche Intelligenz getragen.Am 8. September 2026 begann ASML zudem mit dem Bau eines neuen Produktionscampus bei Eindhoven. Die erste Ausbaustufe soll bis 2029 zusätzliche Büros, Logistikflächen und Reinräume schaffen. Der Konzern erweitert damit seine industrielle Basis, statt sich auf die Verteidigung vorhandener Kapazitäten zu beschränken.Diese Entwicklung widerlegt chinesische Fortschritte nicht. Sie zeigt aber, weshalb zwei Zeithorizonte getrennt betrachtet werden müssen. Ein Unternehmen kann heute hohe Gewinne erzielen und zugleich vor einem ernsthaften langfristigen Wettbewerbsrisiko stehen. Umgekehrt ist ein potenzieller Konkurrent noch keine Erklärung für einen bereits eingetretenen Machtwechsel.Hinzu kommt, dass ASML seine Technik weiterentwickelt. Die High-NA-EUV-Generation vergrößert die numerische Apertur des optischen Systems von 0,33 auf 0,55 und ermöglicht eine höhere Auflösung. Sie soll besonders anspruchsvolle Strukturen mit weniger aufwendigen Prozessfolgen herstellen helfen. China arbeitet damit nicht auf ein unveränderliches Ziel hin: Während neue Anbieter frühere Hürden überwinden, verschiebt sich die technologische Spitze weiter.Woran sich der Durchbruch messen mussFür die weitere Entwicklung zählen deshalb weniger Ankündigungen als überprüfbare Ergebnisse. Entscheidend wäre zunächst, ob ein chinesisches EUV-System tatsächlich funktionsfähige Chips mit den vorgesehenen Eigenschaften herstellen kann. Danach müssten sich Qualität, Geschwindigkeit und Verfügbarkeit über längere Produktionsläufe bewähren. Schließlich wäre zu zeigen, dass sich solche Maschinen nicht nur einmal bauen, sondern wiederholt liefern und zuverlässig betreuen lassen.Erst dieses Gesamtbild würde einen belastbaren Vergleich mit ASML erlauben. Es müsste auch den Aufwand für Wartung, Verbrauchsmaterialien, Ersatzteile und Ausschuss berücksichtigen. Ein niedrigerer Kaufpreis wäre wenig wert, wenn eine Anlage häufiger ausfällt oder pro brauchbarem Chip wesentlich mehr Ressourcen verbraucht.Chinas Fortschritte sollten deshalb weder kleingeredet noch zum vollendeten Sieg erklärt werden. Eine technisch eigenständige Alternative könnte die Kräfteverhältnisse der Halbleiterindustrie verändern, auch ohne ASML sofort weltweit zu verdrängen. Ein großer Teil ihrer strategischen Wirkung läge bereits darin, chinesischen Herstellern eine verlässliche zweite Option zu verschaffen.Noch ist diese Option bei EUV nicht als kommerziell ausgereiftes Angebot belegt. Der eigentliche Haken liegt somit nicht hinter dem Durchbruch, sondern mitten darin: Zwischen einem Prototyp und industrieller Unabhängigkeit steht die Fähigkeit, Präzision dauerhaft in wirtschaftliche Produktion zu übersetzen. Für China ist das die nächste Bewährungsprobe. Für ASML wäre erst deren erfolgreiche Bewältigung der Beginn einer grundlegend anderen Wettbewerbslage.