Dubai Telegraph - Massenentlassungen und KI

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Massenentlassungen und KI




Die Vereinigten Staaten erleben derzeit einen Umbruch auf dem Arbeitsmarkt, wie er in jüngerer Zeit nicht zu beobachten war. Während die Welt noch mit den Nachwehen der Pandemie kämpft, hat eine neue Welle von Massenentlassungen die US‑Wirtschaft erfasst, und viele Unternehmen begründen sie mit dem Einsatz von Künstlicher Intelligenz (KI). Laut aktuellen Auswertungen haben US‑Arbeitgeber im Jahr 2025 insgesamt rund 1,17 Millionen Stellen gestrichen; damit wurde der höchste Wert seit dem Schockjahr 2020 erreicht. Bemerkenswert ist, dass fast 55 000 dieser Entlassungen ausdrücklich mit KI begründet wurden. Diese Zahl markiert erst den Anfang eines Trends, der mittlerweile auch das Jahr 2026 prägt.

Wer entlässt und warum?
Zu den Vorreitern des Abbaus zählen Tech‑Konzerne: Amazon trennte sich 2025 von 14 000 Beschäftigten und begründete dies damit, Ressourcen „auf die größten Wetten“ der Zukunft zu lenken. Beth Galetti, Personalchefin des Unternehmens, sprach in einer internen Mitteilung davon, dass diese Generation von KI die „transformativste Technologie seit dem Internet“ sei. Microsoft kündigte im selben Jahr eine Reduktion von etwa 15 000 Arbeitsplätzen an; Vorstandschef Satya Nadella betonte, dass man das Selbstverständnis des Konzerns im Zeitalter der KI neu definieren müsse. Salesforce strich rund 4 000 Service‑Jobs und verwies darauf, dass KI bereits bis zu 50 % der internen Arbeit übernehme. IBM ersetzte Hunderte von Stellen im Personalwesen durch Chatbots, während CrowdStrike, Workday und andere ebenfalls Entlassungen mit dem Einsatz automatisierter Systeme erklärten.

Bei vielen dieser Schritte spricht das Management von einer „Neuausrichtung“, die durch KI‑gestützte Produktivität möglich werde. Allerdings bezweifeln Expertinnen und Experten, dass Automatisierung allein die treibende Kraft ist. Studien aus dem Umfeld der Massachusetts Institute of Technology zeigen, dass KI derzeit Aufgaben übernimmt, die rund 11,7 % der Tätigkeiten in den USA abdecken können, was Arbeitgebern mittelfristig bis zu 1,2 Billionen Dollar an Lohnkosten ersparen könnte. Fabian Stephany vom Oxford Internet Institute weist jedoch darauf hin, dass viele Unternehmen während der Pandemie zu stark expandiert haben und die aktuellen Entlassungen eher eine „Marktbereinigung“ seien, die nun unter dem Deckmantel der KI verkauft werde. Er bezeichnet diese Praxis als „AI‑Waschen“: Unternehmen nutzen den Hype um KI, um schmerzhafte Personalentscheidungen in ein innovatives Licht zu rücken.

Jenseits der Technologie: andere Ursachen
Hinter den Schlagzeilen über „KI‑bedingte Entlassungen“ verbergen sich weitere Faktoren. Macrowirtschaftliche Unsicherheiten, steigende Finanzierungskosten und handelspolitische Spannungen setzen insbesondere den Tech‑Sektor unter Druck. Eine Analyse der US‑Stellenkürzungen zeigt, dass sich der Fokus im Jahr 2025 von einer Korrektur der Überbesetzung nach der Pandemie hin zur Anpassung an wirtschaftliche Risiken und die Einführung automatisierter Systeme verschoben hat. Fast 70 % der weltweit gestrichenen Tech‑Jobs entfielen 2025 auf US‑Firmen, und der Einsatz von KI wurde für etwa 55 000 Kündigungen verantwortlich gemacht. Gleichzeitig erwarten laut einer Umfrage von Resume.org 55 % der befragten US‑Personalverantwortlichen weitere Entlassungen im Jahr 2026, und 44 % sehen KI dabei als wichtigsten Treiber.

Hinzu kommt, dass sich wirtschaftliche Rahmenbedingungen verschlechtern. Der Rückgang des Konsums in wichtigen Branchen wie E‑Commerce und Gaming zwingt Unternehmen zu Sparmaßnahmen. Die Spieleschmiede Epic Games entließ im März 2026 ein Fünftel der Belegschaft und betonte, dass die Kürzungen nicht auf KI zurückzuführen seien, sondern auf sinkende Einnahmen. Bei anderen Firmen wie Block gab CEO Jack Dorsey offen zu, dass das Unternehmen effizienter arbeiten könne, wenn kleinere Teams mit KI‑Tools kombiniert würden.

Wie real ist die KI‑Bedrohung?
Einige Beobachtende sehen Parallelen zu früheren industriellen Revolutionen: Die Dampfmaschine und das Fließband vernichteten viele Jobs, schufen aber zugleich neue Tätigkeiten. Diesmal könnten jedoch erstmals qualifizierte Büro‑ und Wissensberufe im großen Stil betroffen sein. Die Kommentare in sozialen Medien spiegeln diese Unsicherheit wider: Viele Nutzerinnen und Nutzer sehen KI als Chance zur Arbeitserleichterung, halten aber eine Neuorientierung und Weiterbildung für unerlässlich. Andere warnen davor, den sozialen Ausgleich zu vernachlässigen, da technologische Sprünge in der Vergangenheit oft mit Armut einhergingen. Handwerkerinnen und Handwerker äußern sich erleichtert, dass ihr Beruf sich nicht ohne Weiteres automatisieren lässt.

Technologinnen und Experten weisen darauf hin, dass die Produktivitätssteigerungen durch generative KI noch nicht den Umfang haben, um massenhaft Beschäftigte zu ersetzen. David Linthicum, ehemaliger Strategiechef bei Deloitte, argumentiert, dass viele Unternehmen den Verweis auf KI nutzen, um Überhänge abzubauen und Umsatzeinbrüche zu kaschieren. Die Transformation sei trotzdem real: Arbeitsabläufe werden neu organisiert, Wartungsaufgaben weichen der Verwaltung und dem Training von Modellen. Wendy Turner‑Williams, Gründerin von TheAssociation‑AI.org, warnt davor, dass selbst IT‑Teams nicht immun sind – Automatisierung trifft alle Bereiche, vom Kundendienst über die Qualitätssicherung bis zur Softwareentwicklung.

Chancen und Herausforderungen für Beschäftigte
Die Debatte zeigt, dass KI den Arbeitsmarkt zweifach transformiert: Einerseits fallen Routineaufgaben weg, andererseits entstehen neue Tätigkeiten in der Entwicklung, Steuerung und Überwachung automatisierter Systeme. Unternehmen, die Entlassungen vornehmen, betonen, dass sie zugleich in zukunftsorientierte Bereiche investieren. So baute IBM zwar Stellen im Personalwesen ab, stellte aber vermehrt Softwareentwickler, Vertriebs‑ und Marketingfachleute ein. Diese Umschichtung verlangt von den Mitarbeitenden, sich weiterzubilden und sich in KI‑Kompetenzen einzuarbeiten. Analysten sprechen von einer Verschiebung vom „Fixen der Systeme“ zum „Trainieren der Modelle“.

Politik und Gewerkschaften fordern derweil stärkere Sicherheitsnetze. Angesichts des schnellen Tempos mahnen Arbeitsmarktexpertinnen wie Ramesh Dontha, dass es nicht ausreiche, Menschen vor der KI zu schützen; sie müssten vielmehr auf das Arbeiten mit KI vorbereitet werden. Die Folgen einer unzureichend begleiteten Transformation könnten soziale Spaltung und politische Unruhe verstärken.

Blick nach vorn
Die Welle von Massenentlassungen, die mit KI begründet wird, markiert einen Wendepunkt. Historische Vergleiche zeigen, dass technische Innovationen oft zunächst Arbeitsplätze kosten, aber langfristig neue schaffen. In den USA hängen die aktuellen Kürzungen jedoch mit einer Mischung aus wirtschaftlichem Druck, Nachwirkungen der Pandemie und dem Bestreben zusammen, sich für das KI‑Zeitalter zu rüsten. Die Herausforderung besteht darin, diesen Wandel so zu gestalten, dass er zu mehr Wohlstand führt, statt bestehende Ungleichheiten zu vertiefen. Unternehmen stehen in der Verantwortung, ihre Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter in den Wandel einzubinden, und der Staat muss Rahmenbedingungen für Weiterbildung und sozialen Schutz schaffen. Nur dann kann die KI‑Revolution zu einem nachhaltigen Fortschritt werden, statt den größten Umbruch des US‑Arbeitsmarktes zu einer Krise werden zu lassen.



Vorgestellt


WakeBASE-Sprung vom Dubai Infinity Pool

Das Projekt mit dem Namen "WakeBASE" beinhaltete eine einzigartige Kombination aus Drohnen-Wakeskating und BASE-Jumping.Schauplatz dieses Kunststücks war das Address Beach Resort in Dubai, dessen Infinity-Pool 294 Meter über dem Meeresspiegel liegt und damit den Guinness-Weltrekord hält.Grubbs Herausforderung begann mit einem 94 Meter langen Wakeskating über den Pool auf dem Dach, wobei er von einer speziell entwickelten Drohne gezogen wurde.Der Stunt gipfelte in einem BASE-Sprung vom Rand des Pools, bei dem Grubb 77 Stockwerke hinabsprang, bevor er erfolgreich am Strand landete. Diese Leistung war die Verwirklichung von Grubbs siebenjährigem Traum und ein historischer Meilenstein im Extremsport.Um sich auf "WakeBASE" vorzubereiten, unterzog sich Grubb einem rigorosen Training mit der BASE-Sprunglegende Miles Daisher.Obwohl er im Dezember 2022 erst 26 BASE-Sprünge absolviert hatte, absolvierte Grubb 106 Sprünge während seines Trainings, das in Idaho, USA, und Lauterbrunnen, Schweiz, einem renommierten BASE-Sprungort, stattfand.Das Projekt umfasste auch eine Partnerschaft mit Prada, das maßgeschneiderte, für die Anforderungen von Wakeskating und BASE-Jumping optimierte Kleidung zur Verfügung stellte.Die Drohne, die bei diesem Stunt zum Einsatz kam, wurde von einem Team unter der Leitung von Sebastian Stare mit spezieller Hard- und Software entwickelt, die auf die Anforderungen von "WakeBASE" zugeschnitten ist.Die Wahl des Address Beach Resorts in Dubai war von strategischer Bedeutung, da der hohe Infinity-Pool und das architektonische Layout sowohl für den Wakeskate-Lauf als auch für den BASE-Sprung ideal waren.

Lass dich von Dubai und seinem Zauber überraschen

Lass dich von Dubai und seinem Zauber überraschen

Chinas Angriff auf ASML

China macht Fortschritte beim Aufbau eigener Maschinen für die Chipfertigung. Doch ein EUV-Prototyp ist noch kein Ersatz für die Anlagen des niederländischen Marktführers. Entscheidend ist nicht allein, ob die Technik funktioniert, sondern ob sie zuverlässig und wirtschaftlich produziert.Kaum ein Unternehmen verkörpert die technologische Abhängigkeit der chinesischen Halbleiterindustrie so deutlich wie ASML. Der niederländische Konzern liefert die Maschinen, mit denen sich besonders anspruchsvolle Strukturen moderner Computerchips in industriellen Stückzahlen fertigen lassen. Seine EUV-Anlagen sind deshalb weit mehr als Investitionsgüter: Sie stehen im Zentrum eines Wettbewerbs um wirtschaftliche Macht, künstliche Intelligenz und technologische Eigenständigkeit.China will diese Abhängigkeit überwinden. Fortschritte bei eigenen Belichtungssystemen machen das Vorhaben greifbarer. Die Behauptung, ASMLs schlimmster Albtraum sei bereits Wirklichkeit geworden, geht allerdings zu weit. Ein ernst zu nehmender Herausforderer entsteht nicht mit dem ersten gelungenen Experiment. Er entsteht, wenn Kunden dessen Maschinen dauerhaft in ihre Fertigung integrieren können. Genau dort liegt der Haken hinter Chinas vermeintlichem Triumph.Der Prototyp und die entscheidende LückeIn Shenzhen soll Anfang 2025 ein chinesischer EUV-Prototyp fertiggestellt worden sein, der entsprechendes Licht erzeugen konnte. Ende 2025 hatte die Anlage jedoch noch keine funktionsfähigen Chips hergestellt. Als Entwicklungsziel wurde 2028 genannt; zugleich stand 2030 als vorsichtigere Einschätzung im Raum. Beide Jahreszahlen bezeichnen Erwartungen, keine erreichte Serienreife.Der Unterschied ist fundamental. Ein Versuchsaufbau kann zeigen, dass bestimmte technische Komponenten zusammenarbeiten. Eine Produktionsmaschine muss dagegen unter wechselnden Bedingungen berechenbare Ergebnisse liefern. Sie muss präzise bleiben, Wartungsintervalle überstehen und nach einem Eingriff wieder dieselbe Qualität erreichen. Ihre Leistungsfähigkeit bemisst sich nicht an einem besonders gelungenen Test, sondern an einer langen Folge reproduzierbarer Ergebnisse.Auch erste funktionsfähige Chips wären deshalb noch kein Beweis für wirtschaftliche Konkurrenzfähigkeit. Eine Fabrik braucht nicht nur einzelne erfolgreiche Bauteile. Sie braucht eine ausreichend hohe Ausbeute, also einen tragfähigen Anteil einwandfreier Chips an der gesamten Produktion. Bleibt dieser Anteil zu niedrig, verteilen sich die Herstellungskosten auf zu wenige verkäufliche Produkte. Eine technisch beeindruckende Anlage kann dadurch wirtschaftlich unbrauchbar bleiben.Warum das Licht allein nicht genügtEUV steht für extrem ultraviolette Strahlung. Die Lithografie arbeitet dabei mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern. In ASMLs Systemen treffen leistungsstarke Laserpulse auf winzige Zinntropfen. Das entstehende Plasma emittiert das benötigte Licht, mit dem sich über eine strukturierte Maske feinste Muster auf eine lichtempfindliche Schicht des Siliziumwafers übertragen lassen.Doch dieses Licht lässt sich nicht wie in einem gewöhnlichen optischen Gerät durch Glaslinsen führen. Bereits Luft absorbiert die Strahlung. Der Strahlengang muss daher im Vakuum liegen; hochpräzise Mehrschichtspiegel übernehmen die optische Führung. Lichtquelle, Spiegel, Maske und die Positionierung des Wafers müssen als ein einziges System funktionieren.An dieser Stelle beginnt die eigentliche industrielle Schwierigkeit. Wärme verändert die Eigenschaften optischer Komponenten. Winzige Verschiebungen können die Deckung aufeinanderfolgender Strukturen beeinträchtigen. Verunreinigungen und Abbildungsfehler können Defekte verursachen. Sensoren, Messverfahren und Korrektursoftware müssen solche Einflüsse erkennen und ausgleichen. Es reicht nicht, jede Baugruppe für sich zu beherrschen; die Präzision muss im laufenden Betrieb erhalten bleiben.ASMLs Vorsprung besteht somit nicht nur aus einem Bauplan. Er steckt ebenso in Fertigungsprozessen, Messdaten, Wartungserfahrung und der Abstimmung mit den Chipproduzenten. Wer eine vergleichbare Anlage entwickeln will, muss dieses Zusammenspiel aufbauen. Gerade Erfahrungen aus dem Fabrikbetrieb lassen sich nicht vollständig durch zusätzliche Laborversuche ersetzen.Der nähere Angriff erfolgt über DUVNeben dem EUV-Projekt gewinnt Chinas Entwicklung eigener DUV-Anlagen an Bedeutung. Huawei unterstützt den Aufbau heimischer Ausrüstung und Zulieferer. Das Unternehmen Yuliangsheng arbeitet an entsprechenden Belichtungssystemen, die bei chinesischen Chipproduzenten erprobt werden. Für Ende 2026 steht das Ziel von zwölf Maschinen im Raum. Zugleich bleiben chinesische Hersteller in erheblichem Umfang auf ASML-Technik angewiesen.DUV und EUV dürfen dabei nicht verwechselt werden. Moderne ArF-DUV-Systeme nutzen Licht mit einer Wellenlänge von 193 Nanometern. Durch aufwendige Mehrfachstrukturierung lassen sich damit wesentlich feinere Strukturen erzeugen, als eine einzelne Belichtung erlauben würde. Ein komplexes Muster wird dazu in mehrere einfachere Muster zerlegt, deren Übertragung und weitere Verarbeitung sorgfältig aufeinander abgestimmt werden müssen.Dieser Weg eröffnet technische Möglichkeiten, verlangt aber zusätzliche Prozessschritte und besonders genaue Ausrichtung. Die höhere Komplexität kann die Fertigungsdauer verlängern, Kosten steigern und weitere Fehlerquellen schaffen. Ob das Verfahren wirtschaftlich trägt, hängt vom konkreten Chip und vom beherrschten Produktionsprozess ab. Die Existenz eines leistungsfähigen Prozessors verrät daher noch nicht, wie teuer oder aufwendig seine Herstellung war.Für ASML könnte ein konkurrenzfähiges chinesisches DUV-Angebot dennoch früher spürbar werden als ein EUV-Konkurrent. DUV bleibt auch in modernen Fabriken für zahlreiche Schichten notwendig. Ein heimischer Anbieter müsste deshalb nicht sofort die anspruchsvollsten Anwendungen übernehmen, um Geschäft zu gewinnen. Bereits verlässliche Maschinen für einen Teil der Produktion könnten Abhängigkeiten verringern und den Einstieg in größere Aufträge erleichtern.Eine eigene Maschine ist noch keine eigene LieferketteDie Vorstellung, China müsse lediglich eine niederländische Maschine nachbauen, unterschätzt die Aufgabe. Ein Belichtungssystem vereint hochspezialisierte Optik, Lichtquellen, Präzisionsmechanik, Steuerung und Software. Für den Produktionsbetrieb kommen Verbrauchsmaterialien, Ersatzteile, Prüftechnik und qualifiziertes Servicepersonal hinzu. Eine Schwachstelle kann die Leistung des gesamten Systems begrenzen.Daraus folgt ein strengerer Maßstab für technologische Unabhängigkeit. Eine Anlage, die an einem chinesischen Standort zusammengebaut wird, ist nicht automatisch unabhängig von ausländischen Komponenten. Entscheidend wäre, ob sich kritische Teile dauerhaft beschaffen, in gleichbleibender Qualität fertigen und bei Ausfällen ersetzen lassen. Selbst eine erfolgreiche Erstmontage beantwortet diese Fragen noch nicht.Gelingt es chinesischen Maschinenbauern, ihre Systeme schrittweise in heimischen Fabriken zu etablieren, entsteht allerdings ein wichtiger Vorteil: praktische Rückmeldung. Jeder Einsatz kann zeigen, welche Komponenten verschleißen, welche Korrekturen erforderlich sind und wo Produktivität verloren geht. Diese Lernprozesse könnten langfristig schwerer wiegen als einzelne spektakuläre Demonstrationen. Voraussetzung bleibt, dass die Anlagen den Betrieb tatsächlich unterstützen und nicht dauerhaft durch unzuverlässige Ergebnisse belasten.Exportkontrollen gewinnen Zeit, nicht GewissheitDie Exportbeschränkungen haben den Zugang Chinas zu modernster Lithografietechnik erheblich erschwert. ASML bekräftigte im Juni 2026, niemals EUV-Systeme oder eigens dafür entwickelte Komponenten nach China geliefert zu haben. Das ist zugleich eine wichtige Grenze der Debatte: Ein chinesisches Entwicklungsprojekt ist nicht mit einer nachgewiesenen Lieferung vollständiger ASML-EUV-Anlagen gleichzusetzen.Strategisch lassen sich aus dieser Lage zwei unterschiedliche Wirkungen ableiten. Fehlender Zugang zu Spitzentechnik kann Fortschritte verzögern und die Kosten der Aufholjagd erhöhen. Zugleich wächst der Anreiz, eigene Lösungen zu finanzieren und heimische Lieferanten auch dann zu erproben, wenn deren Produkte zunächst weniger leistungsfähig sind.Daraus folgt weder, dass Exportkontrollen wirkungslos wären, noch, dass sie einen technologischen Vorsprung dauerhaft garantieren könnten. Ihr langfristiger Nutzen hängt auch davon ab, wie die gewonnene Zeit eingesetzt wird. Eine Industrie, die ihre eigenen Entwicklungsprogramme vernachlässigt, lässt sich nicht allein durch Beschränkungen für Wettbewerber absichern.ASML steht nicht vor dem ZusammenbruchDie aktuellen Geschäftszahlen passen jedenfalls nicht zum Bild eines Konzerns, dessen Position bereits zusammengebrochen wäre. Im zweiten Quartal 2026 erzielte ASML rund 9,3 Milliarden Euro Umsatz und 2,9 Milliarden Euro Nettogewinn. Im Juli hob das Unternehmen seine Umsatzprognose für das Gesamtjahr auf 43 bis 45 Milliarden Euro an. Die Nachfrage wird wesentlich durch Investitionen in Rechenleistung und Speicher für künstliche Intelligenz getragen.Am 8. September 2026 begann ASML zudem mit dem Bau eines neuen Produktionscampus bei Eindhoven. Die erste Ausbaustufe soll bis 2029 zusätzliche Büros, Logistikflächen und Reinräume schaffen. Der Konzern erweitert damit seine industrielle Basis, statt sich auf die Verteidigung vorhandener Kapazitäten zu beschränken.Diese Entwicklung widerlegt chinesische Fortschritte nicht. Sie zeigt aber, weshalb zwei Zeithorizonte getrennt betrachtet werden müssen. Ein Unternehmen kann heute hohe Gewinne erzielen und zugleich vor einem ernsthaften langfristigen Wettbewerbsrisiko stehen. Umgekehrt ist ein potenzieller Konkurrent noch keine Erklärung für einen bereits eingetretenen Machtwechsel.Hinzu kommt, dass ASML seine Technik weiterentwickelt. Die High-NA-EUV-Generation vergrößert die numerische Apertur des optischen Systems von 0,33 auf 0,55 und ermöglicht eine höhere Auflösung. Sie soll besonders anspruchsvolle Strukturen mit weniger aufwendigen Prozessfolgen herstellen helfen. China arbeitet damit nicht auf ein unveränderliches Ziel hin: Während neue Anbieter frühere Hürden überwinden, verschiebt sich die technologische Spitze weiter.Woran sich der Durchbruch messen mussFür die weitere Entwicklung zählen deshalb weniger Ankündigungen als überprüfbare Ergebnisse. Entscheidend wäre zunächst, ob ein chinesisches EUV-System tatsächlich funktionsfähige Chips mit den vorgesehenen Eigenschaften herstellen kann. Danach müssten sich Qualität, Geschwindigkeit und Verfügbarkeit über längere Produktionsläufe bewähren. Schließlich wäre zu zeigen, dass sich solche Maschinen nicht nur einmal bauen, sondern wiederholt liefern und zuverlässig betreuen lassen.Erst dieses Gesamtbild würde einen belastbaren Vergleich mit ASML erlauben. Es müsste auch den Aufwand für Wartung, Verbrauchsmaterialien, Ersatzteile und Ausschuss berücksichtigen. Ein niedrigerer Kaufpreis wäre wenig wert, wenn eine Anlage häufiger ausfällt oder pro brauchbarem Chip wesentlich mehr Ressourcen verbraucht.Chinas Fortschritte sollten deshalb weder kleingeredet noch zum vollendeten Sieg erklärt werden. Eine technisch eigenständige Alternative könnte die Kräfteverhältnisse der Halbleiterindustrie verändern, auch ohne ASML sofort weltweit zu verdrängen. Ein großer Teil ihrer strategischen Wirkung läge bereits darin, chinesischen Herstellern eine verlässliche zweite Option zu verschaffen.Noch ist diese Option bei EUV nicht als kommerziell ausgereiftes Angebot belegt. Der eigentliche Haken liegt somit nicht hinter dem Durchbruch, sondern mitten darin: Zwischen einem Prototyp und industrieller Unabhängigkeit steht die Fähigkeit, Präzision dauerhaft in wirtschaftliche Produktion zu übersetzen. Für China ist das die nächste Bewährungsprobe. Für ASML wäre erst deren erfolgreiche Bewältigung der Beginn einer grundlegend anderen Wettbewerbslage.